高纯高密气密级碳化硅匣钵/陶陶匣钵，显气孔率为2%以下，气密性好、不漏液，弯曲强度197 Mpa是普通碳化硅的两倍，抗氧化性能提升10倍以上，抗热震
用于冶金、化工、玻璃等领域的各种粉体烧结、金属冶炼及造纸行业的脱水元件和各种耐磨片
一、工作环境
1、温度：900～1650 ℃（有氧氛围）。
2、介质：强腐蚀性气体、流体等。
3、流化状态的物料冲刷力强。
4、较强的热震应力。
二、应用领域
冶金、化工、玻璃等领域的各种粉体烧结、金属冶炼及造纸行业的脱水元件和各种耐磨片。
三、陶陶匣钵的特殊性
（1）气密性
RSiC再致密匣钵在100倍的显微镜下，表面细致密实，物理和化学结构不变。在高温高压环境下，能够起到真正的安全和保护作用。显气孔率为2%以下。（国际认定显气孔率2%以下为无空气渗透标准）玻璃为无空气渗透，RSiC再致密匣钵与玻璃一致，为无空气渗透保护管。
（2）弯曲强度测试
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匣钵类型 |
弯曲强度 |
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RSiC再致密匣钵 |
197 Mpa |
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RSiC匣钵 |
91 Mpa |
（3）抗氧化性能
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匣钵类型 |
质量增加率 |
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RSiC再致密匣钵 |
0.0180% |
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RSiC匣钵 |
0.290% |
上表显示为在温度1350℃的环境中置放1小时后，碳化硅匣钵的质量增加率。一般碳化硅匣钵质量增加率是RSiC再致密匣钵16倍以上，所以使用寿命要低很多。
一般情况下，碳化硅按以下的化学公式进行反应：
SiC+2O2=SiO2+CO2
因而，碳化硅氧化时质量增加越多，寿命越短。
（4）高纯碳化硅在100℃以下溶液中耐腐蚀性情况如下：
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腐蚀性介质 |
温度℃ |
腐蚀速率（mg/cm2•年） |
|
98%H2SO4 |
100 |
1.8 |
|
85％H3PO4 |
100 |
＜0.2 |
|
54%HF |
25 |
＜0.2 |
|
50％NaOH |
100 |
2.5 |
|
45%KOH |
100 |
＜0.2 |
|
70％HNO3 |
100 |
＜0.2 |
|
32%HCl |
86 |
＜0.2 |
|
10％HF和HNO3 |
25 |
＜0.2 |
注：腐蚀速率＜9.9mg/cm2•年可长期使用
（5）各种碳化硅与其他陶瓷的耐腐蚀性对比如下：
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测试环境* |
腐蚀性失重（mg/cm2yr）** |
||||
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试验液 |
温度（℃） |
碳化硅 （无游离硅） |
碳化硅 (12％游离硅) |
碳化钨（6％钴） |
氧化铝（99％） |
|
98％H2SO4 |
100 |
1.8 |
55 |
＞1000 |
65 |
|
50％NaOH |
100 |
2.5 |
＞1000 |
5 |
75 |
|
53％HF |
25 |
＜0.2 |
7.9 |
8 |
20 |
|
85％H3PO4 |
100 |
＜0.2 |
8.8 |
55 |
＞1000 |
|
70％HNO3 |
100 |
＜0.2 |
0.5 |
＞1000 |
7 |
|
45％KOH |
100 |
＜0.2 |
＞1000 |
3 |
60 |
|
25％HCl |
70 |
＜0.2 |
0.9 |
85 |
72 |
|
10％HF+57％HNO3 |
25 |
＜0.2 |
＞1000 |
＞1000 |
16 |
*测试时间：125-300h浸没测试，持续搅拌。
**抗腐蚀质量减少值评价：
＞1000 mg/cm2yr 几天内完全破坏；
100 to 999 mg/cm2yr 不推荐使用超过一个月；
50 to 100 mg/cm2yr 不推荐使用超过一年；
10 to 49 mg/cm2yr 谨慎推荐，基于特定的应用；
0.3 to 9.9 mg/cm2yr 推荐长期使用；
＜0.2 mg/cm2yr 推荐长期使用，基本无腐蚀。
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